8月21日，有研資環(huán)院第二期學術“咖”邀請日本SOLTEC公司山川哲雄社長和青木智則教授作講座交流。會議由公司副總經(jīng)理袁學韜主持，各部門技術骨干、研究生等20余人參與交流討論。

會上，青木智則教授作題為“關于蒸發(fā)鍍膜中的應力——以TiO2薄膜等為例”講座，主要從薄膜材料中存在的應力問題，應力的定義、分類、測量方法及測量裝置等方面詳細闡述了關于材料制備過程中的應力問題，舉例講解了用不同材料在鍍膜工藝的成膜、冷卻、排氣等過程中各項性能的變化，最后指出起始材料對于應力狀態(tài)的影響最為顯著，建議應在膜設計中重點考量。

在交流環(huán)節(jié)，與會人員與山川哲雄社長、青木智則教授進行了深入探討。山川哲雄社長鼓勵青年骨干和研究生不斷學習進步，提升自己的科研能力。青木智則教授分享自己的科研實踐經(jīng)驗，針對材料方面相關提問進行深入淺出的講解。

袁學韜代表公司為青木智則教授頒發(fā)了外部專家聘書。此次活動拓寬了科研團隊成員和師生的學術視野，啟迪了科研思路，對今后的科研工作有重要的啟發(fā)和借鑒意義。